檢索結果:共1筆資料 檢索策略: "方劭云".ccommittee (精準) and ckeyword.raw="熱點分析修正"
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在記憶體DRAM製造的過程中,透過微影製程技術將設計之光罩轉印至光阻為一項至關重要的技術,但隨著線寬持續微縮,193nm浸潤式微影製程上達到物理極限,必須透過解析度增強技術(Resolution E…